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X射线光电子能谱技术（X-ray photoelectron spectroscopy，XPS）是一种重要的材料表面成分等信息的分析技术。XPS技术通过采用一定能量的X射线照射样品表面，和待测样品的表面原子发生作用，测量样品表层中原子的内层电子或价电子束缚能及其化学位移，从而获得元素种类、原子的结合状态以及电荷分布状态等信息。

XPS技术特点

XPS技术具有灵敏度高、分辨率高、元素分析全（除H和He）、为非破坏性分析、深度剖析、小于10 nm薄膜分析（角分辨）、元素化学态分布（XPS成像技术）等特点。

定性分析:

根据所测得谱的位置和形状来得到有关样品的组分、化学态、表面吸附、表面价电子结构、原子和分子的化学结构、化学键合情况等信息。

定量分析:

以能谱中各峰强度的比值为基础进行分析，把所测到的信号强度转变成元素的含量，即将谱峰面积转变成相应元素的含量。

深度剖析:

由于样品本身的层状结构如氧化、钝化等原因导致样品在深度方向上化学状态的不同。通过利用氩离子枪对样品表面进行氩离子溅射剥离，控制合适的溅射强度及溅射时间，将样品表面刻蚀一定深度，然后进行取谱分析。

角分辨电子能谱分析:

改变样品表面与入射光束间的角度，即可改变入射光的检测深度，使得检测深度变浅，这样来自最表层的光电子信号相对较深层的会大大增强。利用这一特性，可以对超薄样品膜表面的化学信息进行有效地检测，从而研究超薄样品化学成分的纵向分布。

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