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X射线光电子能谱仪（XPS）基于光电效应，采用X射线激发被测样品表面纳米尺度内的原子发射光电子，通过系统探测其所发射光电子的动能等信息，进而实现样品表面的元素组成及化学键状态的定性和定量分析，能进行最外层表面区域的分析，能进行除H和He以外所有元素的分析，灵敏度高，具备化学组成、价态、深度剖析及成像、功函数特性的分析与表征功能。
XPS是当代谱学领域中最活跃的分支之一， 虽然只有十几年的历史， 但其发展速度很快，在电子工业、 化学化工、 能源、 冶金、 生物医学和环境中得到了广泛应用。 除了可以根据测得的电子结合能确定样品的化学成份外， XPS最重要的应用在于确定元素的化合状态。
XPS主要用途
（ 1） 固体样品的表面组成分析， 化学状态分析。
（ 2） 元素成分的深度分析（ 角 分辨方式、 氩离子或C60刻蚀方式）。 深度分析适
合研究： 纳米薄膜材料， 微电子材料， 催化剂， 摩擦化学， 高分子材料的表面和界
面研究。
(3) 可进行样品表面的微区分析， 分析面积可小至 10 nm。
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